HMDS 預(yù)處理真空烘箱是一種專(zhuān)門(mén)用于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中的設(shè)備。
在光刻工藝中,光刻膠大多是疏水的,而硅片等基片表面的羥基和殘留水分子是親水的,這會(huì)導(dǎo)致光刻膠與基片的黏合性較差。HMDS(六甲基二硅氮烷)可以改善這種狀況。
HMDS 預(yù)處理真空烘箱的工作原理是:通過(guò)對(duì)烘箱預(yù)處理過(guò)程中的工作溫度、處理時(shí)間、保持時(shí)間等參數(shù)進(jìn)行控制,能夠在硅片、基片表面均勻涂布一層 HMDS。它首先將基片加熱到100℃-200℃去除表面水分,然后使 HMDS 與基片表面的 OH-反應(yīng),在其表面生成硅醚,從而將極性表面變?yōu)榉菢O性表面,提高光刻膠與基片的黏附性,降低了 HMDS 處理后的基片接觸角,減少光刻膠的用量。
該設(shè)備的特點(diǎn)通常包括:
- 采用醫(yī)用級(jí)不銹鋼 316L 材質(zhì)制造,內(nèi)膽為不銹鋼 316L,具有良好的耐腐蝕性。
- 箱門(mén)閉合松緊可調(diào)節(jié),有整體成型的硅橡膠門(mén)封圈,確保箱內(nèi)高真空度。
- 配備微電腦智能控溫儀,控溫精確、可靠,具有設(shè)定和測(cè)定溫度雙數(shù)字顯示及 PID 自整定功能。
- 擁有智能化觸摸屏控制系統(tǒng),可根據(jù)不同制程條件改變程序、溫度、真空度及每一程序時(shí)間。
- HMDS 氣體采用密閉式自動(dòng)吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保 HMDS 氣體無(wú)外漏顧慮。
- 整個(gè)系統(tǒng)采用無(wú)發(fā)塵材料制造,適用于 100 級(jí)光刻間凈化環(huán)境。
其一般工作流程為:
先確定烘箱工作溫度,打開(kāi)真空泵抽真空,待腔內(nèi)真空度達(dá)到某一高值后,開(kāi)始充入氮?dú)猓涞竭_(dá)到某低真空度后,再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^(guò)程,如此循環(huán)達(dá)到設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后,保持一段時(shí)間使硅片充分受熱以減少表面水分;接著再次抽真空,充入 HMDS 氣體,到達(dá)設(shè)定時(shí)間后停止充入藥液,進(jìn)入保持階段使硅片充分與 HMDS 反應(yīng);最后再次抽真空并充入氮?dú)猓瓿烧麄€(gè)作業(yè)過(guò)程。多余的 HMDS 蒸汽(尾氣)將由真空泵抽出,排放到專(zhuān)用廢氣收集管道或做專(zhuān)門(mén)處理。
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